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氧化鎵(Ga2O3)將作為一種高性能、高可靠性的半導體材料可能會取代硅(Si)和其他半導體材料,以實現(xiàn)低功耗電子電路的設計。它將有助于小型化電子器件,以滿足人們?nèi)找嬖鲩L的對小型電子產(chǎn)品和消費電子產(chǎn)品的需求。在未來,隨著傳感器、濾波器、電路設計和可視圖像成像技術(shù)的發(fā)展,氧化鎵(Ga2O3)也將大量應用于這些領(lǐng)域。因此,氧化鎵(Ga2O3)有望在未來發(fā)揮重要作用,并帶來巨大的發(fā)展機遇。
產(chǎn)品規(guī)格 | |
產(chǎn)品名稱/英文名稱 | 氧化鎵/GALLIUM(III) OXIDE |
純 度 | 99.99%(4N),99.995%(4N5),99.999%(5N) |
粒徑大小 | D50:2-5微米(可根據(jù)客戶需求定制粒度大小),50-100納米 |
CAS登錄號 | 12024-21-4 |
表觀(顏色/形態(tài)) | 白色粉末 |
化學式 | Ga2O3 |
常見用途 | 在光電子器件方面有廣闊的應用前景 ,被用作于Ga基半導體材料的絕緣層,以及紫外線濾光片。它還可以用作O2化學探測器 |
產(chǎn)品包裝 | 置于密封的塑料瓶中,每瓶0.5kg、1kg,也可根據(jù)用戶要求包裝 |
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